[뉴스토마토 김수민 기자] 삼성전자 자회사 세메스와 SK하이닉스의 반도체 핵심기술을 중국 경쟁업체에 유출한 혐의로 재판에 넘겨진 국내 반도체 장비업체 책임자가 1심에서 실형을 선고받았습니다.
13일 서울중앙지법 형사25-3부(지귀연 부장판사)는 산업기술보호법 위반 등 혐의로 기소된 A사의 부사장 신모씨에게 징역 1년을 선고했지만 법정구속은 하지 않았습니다. 법인에는 벌금 4억원을 선고했습니다.
연구소장 임모씨와 영업그룹장 박모씨는 각각 징역 1년6개월에 집행유예 2년과 벌금 3000만원을 선고받았습니다. 함께 기소된 다른 임직원 대부분도 징역형의 집행유예 또는 벌금형을 선고받았습니다.
이들은 SK하이닉스와 협업을 통해 알게 된 HKMG(High-K Metal Gate) 반도체 제조기술과 세정 레시피 등 반도체 관련 핵심기술을 중국 반도체 경쟁업체로 유출한 혐의를 받습니다.
재판부는 HKMG 기술과 반도체 세정 레시피 유출 혐의 대부분을 유죄로 봤습니다.
재판부는 "레시피를 해외로 유출한 범행은 상당히 무겁고 죄질이 좋지 않다"며 "국가핵심기술이라 할 수 있는 (SK하이닉스의) HKMG 관련 공정 기술도 유출됐고 세메스 정보를 몰래 취득하거나 이를 이용해 초임계 세정장비를 개발하는 것 역시 공정한 경쟁질서를 위협해 상당히 죄질이 좋지 않다"고 밝혔습니다.
삼성전자 자회사의 반도체 세정 장비 도면 빼돌린 혐의도
이들은 삼성전자와 세메스의 전직 직원들을 통해 몰래 취득한 초임계 세정장비 도면 등을 활용해 중국 수출용 장비를 개발한 혐의도 있습니다.
이들이 유출한 HKMG 기술은 누설 전류를 막고 정전용량을 개선한 차세대 공정 기술입니다. 반도체 세정 레시피는 초임계 이산화탄소로 반도체 기판을 세정해 손상을 최소화하는 차세대 기술입니다.
앞서 검찰은 국가정보원 산업기밀보호센터로부터 기술 유출 정보를 전달받아 수사에 착수해 2021년 1월 이들을 재판에 넘겼습니다.
서울법원종합청사 (사진=연합뉴스)
김수민 기자 sum@etomato.com