에스앤에스텍, 포트마스크 관련 특허 취득

[뉴스토마토 김세연기자]  에스앤에스텍(101490)은 30일 포토마스크 관련 특허를 취득했다고 밝혔다.

 

이번 특허는 대형 위상반전막 특허로, 금속막의 식각속도를 위상반전막의 식각속도보다 빠르게 해 한번에 블라인드 영역과 메인영역의 위상반전막과 금속막을 식각해 패턴을 형성하는 것이다.

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