테스, 기판처리방법 관련 특허권 취득

[뉴스토마토 서유미기자] 테스(095610)가 반도체 장비에 적용되는 기판처리방법에 관한 특허권을 취득했다고 6일 공시했다.

 

회사는 "기판처리시 자연산화막과 함께 실리콘 층을 식각하는 데미지층을 충분히 제거할 수 있다"며 "저항을 획기적으로 개선할수 있다"고 설명했다.

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